Influência do tratamento térmico na redução do óxido de grafeno

Influência do tratamento térmico na redução do óxido de grafeno

Filho, J. C. S.; Soares, E. P.; Venancio, E. C.; Silva, S. C.; Takiishi, T.

Artigo Completo:

A redução térmica de óxido de grafeno (GO) para o óxido de grafeno reduzido (rGO) é um passo importante no processamento para fabricar muitos materiais e dispositivos à base de grafeno. Neste trabalho, o GO foi sintetizado a partir do método de Hummers modificado, e as amostras foram tratadas termicamente à temperatura de 200°C, com uma rampa de aquecimento de 10°/min, e pressão de 10 kPa, durante o tempo de 15 e 30 minutos. A caracterização de GO pelo DRX exibiu apenas um pico em 10°, do conjunto de planos GO (002), e a TGA demonstrou que o GO possui 10% de moléculas de água, voláteis e 26,77% de grupos com oxigênio. As amostras de rGO indicaram a perda de massa em 100 e 200°C na TGA e uma menor intensidade na absorção em 3489 cm-1 na FTIR.

Thermal reduction of graphene oxide (GO) to reduced graphene oxide (rGO) is an important step in processing to manufacture many graphene based materials and devices. In this work, the GO was synthesized from the modified Hummer method, and samples were thermally treated at 473 k at heating rate of 10°/ min and 10 kPa, during 15 and 30 minutes. The characterization of GO by XRD exhibited only a 10° peak of the set of GO (002) planes, and the TGA shows that GO has 10% of water molecules, volatile and 26.77% of groups with oxygen. The rGO samples indicated mass loss at 100 and 200°C in TGA and a lower intensity of absorption at 3489 cm -1 in FTIR

Palavras-chave:

DOI: 10.5151/phypro-viii-efa-18

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Como citar:

Filho, J. C. S.; Soares, E. P.; Venancio, E. C.; Silva, S. C.; Takiishi, T.; "Influência do tratamento térmico na redução do óxido de grafeno", p-72-75. In: . São Paulo: Blucher, 2017.
ISSN 23582359, DOI 10.5151/phypro-viii-efa-18